芯片製造關鍵設備再突破 離子注入機實現全譜系產品國產化
- 來源：新華社
- 作者：温競華
- 時間：2021-03-17 13:11:05
芯片製造重要一環取得突破！中國電科旗下裝備子集團日前已成功實現離子注入機全譜系產品國產化，可為全球芯片製造企業提供離子注入機一站式解決方案。
中國電科連續突破高性能離子源、高速晶圓傳輸等“卡脖子”技術，自主研製中束流、大束流、高能、特種應用及第三代半導體等離子注入機，工藝段覆蓋至28nm，累計形成核心發明專利413項，實現我國芯片製造領域全譜系離子注入機自主創新發展。有效緩解我國芯片製造領域斷鏈、短鏈難題。（記者：温競華）
原標題：新華社：芯片製造關鍵設備再突破 離子注入機實現全譜系產品國產化
責任編輯：王煥煥-
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